Китайският начин за заобикаляне на санкциите: ускорител на частици като ключ към лидерство в полупроводниковата индустрия
Китай възнамерява да построи гигантска фабрика за производството на най-съвременни чипове, в която ще се употребява ускорител на частици – ход, който може да се окаже страховит пробив в заобикалянето на глобите на Съединени американски щати и да сложи страната в челните редици на полупроводниковата промишленост. Това изобретение дава обещание огромен индустриален размер при ниски разноски и има капацитета да ускори позициите на Китай в промишленото произвеждане на усъвършенствани микросхеми, известни като 2-нанометрови чипове.
Настоящите литографски системи, употребявани за производството на микрочипове, са едни от най-сложните механизми, основани от индивида. Понастоящем за производството на чипове със 7-нанометрови и по-малки софтуерни процеси необятно се употребява рисково ултравиолетово (EUV) лъчение извънредно дребна дължина на вълната. ASML е единствената компания, която владее тази технология и господства на пазара. Китайските учени обаче създават различен път, който бе показан през 2017 година и получи необятно самопризнание след пробивите на Huawei в производството на чипове.
Проектът, управителен от професор Танг Джуангсян от университета Цинхуа, изследва нов механизъм на луминесценция, наименуван steady-state microbunching (SSMB). Тази технология употребява силата, освободена от заредените частици по време на ускорение, като източник на светлина. Резултатът е тяснолентова, едва разсейваща се и непрекъсната чиста EUV светлина. Технологията дава обещание висока изходна мощ от 1000 W, която е надалеч оттатък актуалните благоприятни условия на технологията на ASML.
През 2019 година екипът направи първата си сполучлива презентация в Берлин, а през 2021 година разгласява получените резултати в Nature. През 2022 година в университета Цинхуа е създаден нов първообраз. Професор Пан Жилун означи, че основните технологии са съвсем подготвени за приложение.
През февруари тази година на специфична среща в Сюнган се разисква по какъв начин да се развиват софтуерните компании в тази напълно нова сфера на полупроводниковата техника. Представителите на плана също по този начин посетиха Сионган, с цел да изберат място за бъдещото строителство.
Създадената тотално нова технология може да помогне на Китай да избегне бъдещите наказания, макар че съответният прогрес на литографската машина, основана на SSMB, към момента не е оповестен. Професор Танг акцентира, че самостоятелното създаване на машини за EUV литография, основани на SSMB светлинни източници, предлага опция на глобените технологии, само че това изисква дълготрайно съдействие на фирмите с китайската полупроводникова промишленост в региона на софтуерните нововъведения.
„ Наясно сме, че следвайки настоящия софтуерен път, е мъчно да се реализиран нови пробиви в региона на интегралните схеми “, написа специалист от Чунцин в публикация, оповестена в Huxiao Business Review. „ По-рационално е да се следва новият курс “.
Той съобщи, че предлагането на Tsinghua за потребление на технологията SSMB в литографията може да помогне на Китай да преодолее софтуерните ограничавания на ASML. Той добави, че това, което Tsinghua предлага, не е просто литографска машина, а голям цех, който ще изисква огромни площи и работна ръка – запаси, с които Китай няма проблем.
