... подравняване на следващата пластина, докато се експонира предишната. Според ръководството на ASML, скенерът Twinscan XT:260 е само първият модел от цяло семейство специализирано литографско оборудване.
Първия Литографски - Новини
Примерът с китайската полупроводникова индустрия показва колко е важно да
...... овладяване на 28 nm технология до 2027 година и 14 nm технология до 2030 година. Засега местните производители на оригинално оборудване изостават от целевия график.
На конференцията Imec ITF World 2024 ASML съобщи че е
...... т.е. минималното разстояние между металните елементи на чипа – то варира от 16 nm при A3 възли до 10 nm при A2 възли или по-малки.
Наскоро холандската компания ASML извърши тестово отпечатване върху силициева подложка
...... цeнa oбaчe щe зaвиcи oт дeйcтвитeлнaтa ĸoнфигypaция нa ycтpoйcтвoтo. Глaвният изпълнитeлeн диpeĸтop нa Іntеl Πaт Гeлcингep нacĸopo зaяви, чe мaшинaтa cтpyвa „oĸoлo 400 млн. дoлapa“.




