ASML счупи рекорда си за плътност на транзисторите с помощта на първия си High-NA литографски скенер и разказа за обещаващата Hyper-NA технология
На конференцията Imec ITF World 2024 ASML заяви, че е съумяла да счупи личния си връх за компактност на транзисторите с първия си литографски скенер с висока числова апертура (High-Numerical Aperture – High-NA), подложен доскоро повече от месец. Компанията също по този начин разгласи перспективната разработка на по-усъвършенстван хардуер от клас Hyper-NA и очерта проект за удвояване на продуктивността, съобщaва Tom’s Hardware.
Бившият президент и основен механически шеф на ASML Мартин ван ден Бринк, който в този момент е съветник на компанията, съобщи, че ASML ще създаде Hyper-NA скенер, който е по-усъвършенстван от съществуващия High-NA. Той също по този начин очерта проект за понижаване на разноските за произвеждане на чипове с съоръжение за рискова ултравиолетова технология (EUV) посредством увеличение на скоростта на обработка до 400-500 силициеви пластини на час – повече от два пъти повече от сегашните 200 пластини на час. Той предложи и модулен, уеднаквен дизайн за бъдещите линии за EUV съоръжение на ASML.
С спомагателна конфигурация на оборудването ASML съумя да отпечата 8 nm плътни линии с High-NA EUV оборудването – връх за индустриален скенер, сподели Мартин ван ден Бринк.
Компанията сложи предходния връх през април, като отпечата 10 nm плътни линии на машина в взаимната си лаборатория с Imec във Велдховен, Нидерландия. За съпоставяне, общоприетите машини на ASML Low-NA EUV могат да отпечатват черти с размер 13,5 nm (критични размери или CD), до момента в който новият скенер EXE:5200 High-NA може да основава транзистори с черти с размер 8 nm, като ASML показва, че той дава отговор на оповестените характерности.
Сега компанията би трябвало да усъвършенства системата и да я приготви за всеобщо произвеждане. Тази работа към този момент се прави в Холандия, а Intel, единственият производител на чипове с изцяло съединена High-NA система наблюдава стъпките на разработчика, до момента в който тя се пуска в деяние в завода му D1X в Орегон. Първоначално Intel ще я употребява за научноизследователска и развойна активност, след което ще стартира произвеждане на артикули от клас 14А. Мартин Ван дер Бринк още веднъж загатна машината Hyper-NA EUV, само че дефинитивно решение за нея към момента не е взето – ASML евентуално към момента прави оценка интереса на промишлеността.
Съвременната общоприета EUV машина работи със светлина с дължина на вълната 13,5 nm и цифрова апертура от 0,33 (мярка за способността на оборудването да концентрира светлината). Оборудването с висока числова апертура от 0,55 употребява същата дължина на вълната, само че разрешава печатане на по-малки детайли. Системата Hyper-NA, за която приказва Мартин ван дер Бринк ще резервира същата дължина на вълната на светлината, само че числовата апертура ще се усили до 0,75. Toва ще разреши отпечатването на още по-малки детайли. Компанията не прецизира сериозния размер на детайлите за такова съоръжение, само че дава металната стъпка, съвместима с Hyper-NA, т.е. минималното разстояние сред металните детайли на чипа – то варира от 16 nm при A3 възли до 10 nm при A2 възли или по-малки.
