Intel сподели най-големия ънбоксинг досега – на супермодерната машина за чипове на ASML, струваща 380 млн. долара
Видеоклип демонстрира по какъв начин машината минава от товарен аероплан през камион до новия си дом си в завода на Intel в Орегон...
Емил Василев 21:51 | 04.03.2024 11 СподелиНай-четени
АвтомобилиИван Давидов - 15:26 | 02.03.202410 забавни обстоятелството за Мерцедес-Бенц. Сигурно знаете за 5 от тях макс
ХардуерЕмил Василев - 8:43 | 04.03.2024Руските преносими компютри „ СИЛА “ ще се доставят с авансово конфигурираната Оценка за съвместимост Uncom
КосмосЕмил Василев - 10:00 | 01.03.2024Започва първият в историята опит за изваждане на мъртва ракета от орбитата на Земята
Емил Василевhttps://www.kaldata.com/В края на предходната година ASML достави на Intel първата си система за рискова ултравиолетова литография (EUV) с висока разграничителна дарба. През миналия уикенд процесорният колос разгласява видеоклип, в който се отразява инсталирането на супермодерната машина във фабриката покрай Хилсбъро, Орегон. Машината ще се употребява най-вече за проучвателен и развойни цели.
Машината Twinscan EXE:5000 High-NA EUV на ASML е в действителност солидна. За превозването на машината, която тежи към 330 000килограма са били нужни общо 250 кашона.
Товарен аероплан транспортира контейнера от видеото (по-долу) от Холандия до Портланд, Орегон, а по-късно камион доставя един от основните съставни елементи на машината. Както можете да видите във видеото, машината е конфигурирана във фабриката, само че това не е всичко. На 250 инженери от ASML и Intel ще им отнеме към 6 месеца, с цел да бъде тя подготвена да започва работа.
Специалистите ще би трябвало да я настроят. Това може да отнеме седмици, в случай че не и месеци. Първоначално двете компании ще би трябвало да „ възпламенят “ машиниата, което се случва, когато фотони попаднат върху съпротивлението на пластините.
Машината може да печата с резолюция 8 nm. Това което доста усъвършенства продуктивността на употребяваните сега Low-NA EUV скенери. Последните са лимитирани до 13 nm резолюция с една експозиция. Този прогрес дава опция за създаване на транзистори, които са към 1,7 пъти по-малки от сегашните. Това води до съвсем 3 пъти по-голяма компактност на транзисторите.
Постигането на 8 nm размери е от решаващо значение за производството на чипове, употребяващи под 3 nm софтуерни процеси. Това е цел, която промишлеността се надява да реализира сред 2025 и 2026 година.
Intel ще употребява своята нова играчка, с цел да научи по какъв начин да употребява High-NA EUV технологията. Компанията възнамерява да тества потреблението на High-NA литография със своята софтуерна технология Intel 18A (макар и не за произвеждане в огромни обеми) и вероятно да я одобри за всеобщо произвеждане със своя индустриален развой Intel 14A.
По-рано ASML разгласи, че цената на нейния инструмент за произвеждане на чипове от последващо потомство High-NA EUV ще бъде повече от два пъти по-висока от цената на сегашните принадлежности за литография Low-NA EUV. Това е почти 380 млн. $ (350 млн. евро). Точната цена обаче ще зависи от действителната настройка на устройството. Главният изпълнителен шеф на Intel Пат Гелсингер неотдавна съобщи, че машината коства „ към 400 млн. $ “.
За съпоставяне, съществуващите Low-NA Twinscan NXE EUV системи са на цена от към 183 млн. $ (170 млн. евро). Като вариациите се основават на съответни модели и конфигурации. Intel може да е първата компания, която ще получи този авангарден индустриален инструмент, само че ASML разкри за „ 10 до 20 “ поръчки за своите High-NA EUV машини от компании като Intel, Samsung, SK Hynix и TSMC.
