Инсталиран е първият литографски скенер на ASML за производство на 2 nm чипове чрез технологията Low-NA EUV
В подтекста на неотдавнашните достижения в връзките сред Intel и ASML, някак си се пропуща фактът, че производителят на чипове се надява да овладее 2 nm произвеждане без да минава към по-скъпите EUV High-NA скенери.
Тази седмица ASML заяви, че първият скенер Twinscan NXE:3800E Low-NA е бил конфигуриран от един от клиентите на компанията.
Chipmakers have a need for speed! The first TWINSCAN NXE:3800E is now being installed in a chip fab.
Източник: kaldata.com
КОМЕНТАРИ