Литографските машини, съчетаващи свръхтвърдо ултравиолетово излъчване (EUV) и висока значение

...
Литографските машини, съчетаващи свръхтвърдо ултравиолетово излъчване (EUV) и висока значение
Коментари Харесай

ASML тази година започва доставките на литографски скенери от следващо поколение

Литографските машини, съчетаващи свръхтвърдо ултравиолетово лъчение (EUV) и висока значение на числовата апертура (High NA), са съществени принадлежности за преодоляване на по този начин наречените „ ангстрьомни “ технологии за процеси под 2 nm, тъй че способността на ASML да достави такива системи до края на тази година е от решаващо значение за нейните клиенти.

Да напомним, че Intel разгласи желанието си да се снабди с една от първите сходни системи (TWINSCAN EXE:5200) и да я конфигурира в строящото се дружество в Охайо до края на 2024 година, тъй че до 2025 година то да може да се употребява за произвеждане на съставни елементи, употребяващи технологията Intel 18A. Разходите за един скенер от последващо потомство възлизат на 340 млн. $ спрямо нормалните 150 млн. $ за системите от настоящето потомство.

Както отбелязва Ройтерс, основният изпълнителен шеф на ASML Питър Веннинк (Peter Wennink) удостоверява, че даже произлизащите от това забавяния усложнения няма да попречат на компанията да изпрати първите пилотни системи с висока числова апертура на своите клиенти до края на тази година. По думите му някои от доставчиците са изпитали известни проблеми с увеличението на производството на нужните съставни елементи, както и с качеството на продуктите, и това е довело до известни закъснения. Но даже и при такива условия първият образец от новата литографска система ще бъде доставен до края на тази година, увери ръководителят на ASML.

Отделно той означи, че растежът на приходите на компанията от 30% през тази година ще се дължи на преимуществото на увеличените продажби на съоръжение за дълбока ултравиолетова литография (DUV), което, наред с другото, е търсено от китайските клиенти. Това съоръжение даже превъзхожда по-модерното съоръжение за EUV литография в структурата на приходите на ASML. Въпреки това, съгласно Венинк, изкривяването ще бъде поправено през идната година, защото новите уреди в Тайван и Съединени американски щати ще изискват по-модерно съоръжение.

Източник: kaldata.com

СПОДЕЛИ СТАТИЯТА


Промоции

КОМЕНТАРИ
НАПИШИ КОМЕНТАР