„С един порядък по-евтино от ASML.“ Canon подготвя тиха революция на пазара на машините за производство на чипове
Canon е на половин крачка от реализирането на тиха гражданска война на пазара за произвеждане на полупроводници – основният изпълнителен шеф на японския софтуерен колос съобщи, че новите машини за произвеждане на чипове ще бъдат 10 пъти – с един порядък по-евтини от най-напредналите в техническо отношение EUV-системи на холандската ASML, струващи стотици милиони долари всяка, които сега играят основна роля в софтуерната борба сред Съединени американски щати и Китай.
Става дума за същите машини FPA-1200NZ2C, въз основата на Nanoimprint lithography (известна още като наноотпечатна литография или изпъкнал щемпел, embossing) – в резюме, това е една по-достъпна опция на познатата и добре изпитана фотолитография, която е главната за производството на полупроводници.
„ Цената ще бъде с порядък по-ниска от тази на EUV машините на ASML “, съобщи в скорошно изявление 88-годишният Фуджио Митарай, който е в третия си следващ мандат като президент на Canon, откакто се отдръпна от оперативното ръководство през 2016 година
В същото време той означи, че към момента не е взето дефинитивно решение за цената.
В момента единствено няколко огромни играчи могат да си разрешат да влагат в скъпото холандско съоръжение, което се следи от близко поради водещия му статут във веригата за доставка на технологии. От друга страна, Canon има всички шансове да постави завършек на монопола на холандската ASML, чието съоръжение се употребява от TSMC и Samsung за произвеждане на най-модерните чипове – същите 3nm Apple A17 Pro (iPhone 15 Pro и iPhone 15 Pro Max). Новите литографски машини на Canon са евентуална опция за понижаване на зависимостта от EUV технологията и късмет за по-малките играчи да се борят за своето място под слънцето на мощно конкурентния пазар на полупроводници.
Да напомним, че както беше упоменато по-рано, ASML не изнася съоръжение за Китай заради настоящите наказания – Съединени американски щати си сътрудничат с Япония и Нидерландия, с цел да попречат на КНР да получи достъп до модерните полупроводникови технологии. В същото време Bloomberg неотдавна заяви, че китайската SMIC е употребила съоръжение от нидерландската ASML за производството на авангарден процесор за смарт телефон на Huawei.
Интересно е, че до момента технологията за нанопечатна литография, която въобще не включва фотолитография, не е била глобена. В същото време Canon е напълно наясно с огромната възможност от ограничавания на износа, които да лимитират в допълнение военно-технологичния прогрес на Китай.
„ Разбирам, че износът на всичко, което надвишава 14 nm технология, е неразрешен, тъй че не мисля, че ще можем да продаваме съоръжение на Китай “. Fudio Mitarai, основен изпълнителен шеф и президент на Canon.
Ключовата разлика при нанопечатната литография е потреблението на напън (вместо светлина) за основаване на стремежи модел върху силициевата пластина. Новите машини на Canon са в положение да създават процесори, които са идентични с 5 nm чипове, създадени благодарение на по-напредналата технология на рисковата ултравиолетова литография (EUV), която е доминирана от сегашния водач и в действителност монополист – към този момент упоменатата ASML Holding NV. Още в идващото потомство Canon възнамерява да премине към 2nm (сега TSMC и южнокорейската Samsung – два от най-големите производители на полупроводници – имат за цел да стартират произвеждане на 2nm артикули през 2025 г.) и доста да усъвършенства личните си позиции.
