Intel скоро ще инсталира втори литографски High-NA EUV скенер на ASML – той ще произвежда 1,4 nm чипове
Първият High-NA EUV литографски скенер беше доставен на Intel от ASML още през декември предходната година, инсталирането му в изследователския център в Орегон завърши през април, а на предходната 3-месечна конференция основният изпълнителен шеф на Intel удостовери, че компанията e получила втора такава машина от ASML.
Това изказване на основния изпълнителен шеф Патрик Гелсингер, както отбелязва Ройтерс остана неусетно на фона на неприятния тримесечен доклад, само че споменаването на този факт въпреки всичко прозвуча.
„ Вторият High-NA EUV скенер беше доставен в нашия цех в Орегон. “
обясни сбито шефът на Intel, като добави, че ранните вложения на компанията в съвременни технологии се показват добре
Както е известно, Intel ще се нуждае от такова съоръжение, с цел да създава чипове по обещаващата технология Intel 14A от 2027 година, само че на равнището на изпробване има намерение да го употребява в границите на по-зрелия развой Intel 18A.
В средата на юли представители на ASML също признаха, че компанията е почнала доставката на High-NA EUV литографска машина на избран клиент, и в случай че съпоставим това изказване с признанията на ръководителя на Intel, излиза наяве, че става въпрос за тази компания. Intel ще изплати парите за първия литографски скенер от този клас до края на тази година, а заплащането за втория може да се случи през идната година. Всяка такава машина коства 350 млн. евро.
ASML към този момент има поръчки за повече от 10 такива системи, като измежду клиентите ѝ са Intel, TSMC, Samsung, SK hynix и Micron. TSMC твърди, че няма да се нуждае от такива скенери, с цел да създава чипове, употребяващи технологията A16, само че не се отхвърля да опитва с такова съоръжение. Изброените нагоре производители наизуст чакат да стартират да употребяват EUV литографи с висока числова апертура от 2025 до 2026 година.
