Една сравнително нова идея: Nvidia и Synopsys въвеждат изкуствен интелект в литографската подготовка за производство на чипове
Изкуственият разсъдък намира приложение освен на стадия на създаване на чипове и програмен продукт, само че и при основаването на инструментариума за произвеждане на чипове. Като най-малко взаимната работа сред Nvidia и Synopsys даде опция за видимо ускорение на процеса на създаване на фотомаските. Както и за въвеждане на коригиращи дейности в софтуерните процеси при производството на чиповете посредством метода на оптичната литография.
В уеб страницата на Nvidia се появи прессъобщение. В него се споделя, че в съдействие с разработчика на програмен продукт за планиране на чипове и принадлежности Synopsys компанията е употребила изкуствен интелект. Предимно с цел да усъвършенства работата на софтуерната платформа cuLitho. Тя към този момент е употребила изчислителната мощност на GPU, с цел да усъвършенства създаването на фотомаски при производството на чипове. Една система с 350 ускорителя Nvidia H100 може да размени център за данни с 40 000 централни процесора. Като по едно и също време с това осезателно понижава потребността от пространство и потреблението на сила.
TSMC, която е най-големият производител на чипове по контракт, внедрява в процесите си решенията cuLitho на Nvidia. Те бяха показани предходната година. Synopsys също по този начин мигрира своя програмен продукт Proteus за пресмятане на оптичната промяна за близостта при планиране на фотомаски към платформата cuLitho на Nvidia. По този метод се реализира два пъти по-голямо ускоряване спрямо потреблението единствено на изчислителните запаси от централни процесори. В бъдеще тези решения ще бъдат поддържани от семейството ускорители Blackwell на Nvidia.
