Китайската SMEE е много близо до създаването на EUV-скенери, необходими за производството на модерни чипове
Екстремната ултравиолетова литография (EUV) може доста да понижи разноските за произвеждане на 7 nm и по-съвършени полупроводникови съставни елементи, заради което глобите на Съединени американски щати против Китай са ориентирани към ограничение на достъпа на тази страна до такива технологии. Оказва се, че китайските производители на автентично съоръжение основават свои лични решения за EUV.
Заявката за патент за „ Генератори за рисково ултравиолетово излъчване (EUV) и съоръжение за литография “, подадена в Китай от Shanghai SMEE още през март предходната година демонстрира следното. Според South China Morning Post документът разказва правилата на литографско съоръжение, предопределено за работа с източници на рисково ултравиолетово излъчване. Информацията за регистрацията на такава поръчка за патент стана известна едвам тази седмица.
Досега SMEE е съумяла да сътвори единствено литографски скенери, подобаващи за работа с 28 nm и по-стари софтуерни стандарти.
Ако китайската компания овладее производството на EUV скенери, тя доста ще понижи разликата сред китайските производители на чипове и задграничните си съперници.
Лидер в доставката на литографско съоръжение е холандската компания ASML. Китайските производители на чипове към момента зависят на 99 % от задгранични снабдители, в това число компании от Холандия, Съединени американски щати и Япония. И трите страни лимитират доставките на EUV съоръжение за Китай, като първата вкара такива ограничения още през 2019 година.
От този месец холандските управляващи изискват от сдруженията, които правят активност под юрисдикцията на тази страна да получат лицензи за експорт за доставка на аварийни елементи за съоръжение на ASML, конфигурирано в Китай, както и за актуализации на софтуера за системи, експлоатирани от китайски клиенти. Сервизната поддръжка на това съоръжение също е на практика неразрешена.
Самото сдружение Shanghai SMEE е включено в листата със наказания на Съединени американски щати през декември 2022 гoдина, което го лишава от опцията да употребява технологии и съставни елементи с американски генезис в своето съоръжение. Очевидно компанията е решила независимо да сътвори съоръжение за произвеждане на чипове благодарение на EUV литография. Последната допуска лазер с дължина на вълната 13,5 нанометра, което е съвсем 14 пъти по-малко от присъщия за DUV-оборудването параметър от 193 нанометра. Китайската SMIC, както е признато да се счита създава 7 nm чипове за Huawei благодарение на DUV-оборудване и многочислени и тромави принадлежности. Крайните артикули се оказват много скъпи заради високото равнище на недостатъци. Преминаването към пълноценно EUV съоръжение би разрешило на китайските производители на чипове да спестят време и средства при работата си.
