В момента Русия може да произвежда 90-нм чипове, но след

В момента Русия може да създава 90-нм чипове, само че след 6 години ще доближи 6 нм
(снимка: CC0 Public Domain)

Институтът по приложна физика на Руската академия на науките (ИПФ РАН ) в Нижни Новгород създава първото в страната литографско оборудване за произвеждане на чипове по ултратънки софтуерни процеси .

Учените от РАН са основали демонстрационен пример на оборудването, което е употребявано за правене на изображения на силициеви подложки с резолюция до 7 нанометра, заяви държавният уебсайт „ Стратегия за развиване на района Нижни Новгород ”.

В момента Микрон е единствената компания за полупроводници в Русия, способна да създава относително съвременни чипове по поръчка. Предприятието е усвоило производството на микросхеми по  65-нм технология, само че единствено за инженерни мостри. Масовото произвеждане към момента е по 90-нм развой, който на процедура е от „ предишния век ”.
още по темата
За съпоставяне, тайванската компания TSMC, най-големият производител на чипове по контракт в света, стартира развой по асимилиране на 2-нанометрова технология за чипове още през юни 2019 година

Русия възнамерява да сътвори индустриален пример на литографска машина за 7-нм чипове след шест години. През 2024 година се чака да стане подготвен работещ вид на „ алфа машина ”, която ще може да прави цялостен цикъл от интервенции.

На втория стадий през 2026 година ще се появи „ бета машина ”. Системите на оборудването ще бъдат усъвършенствани и усъвършенствани, резолюцията и продуктивността ще се усилят, доста интервенции ще станат роботизирани и инсталацията ще стартира да се употребява в огромно произвеждане.

И най-после, на третия стадий (2026-2028 г.), съветският литограф ще получи по-мощен източник на лъчение, усъвършенствани системи за позициониране и зареждане и ще пристъпи към пълноценно произвеждане, твърди уебсайтът за развиване на Нижни Новгород.