SMIC започна тестването на DUV система за производство на 7 nm чипове, създадена в Китай
Успехът на китайската литографска компания SMIC в изискванията на възходящи наказания от страна на Съединени американски щати в избран миг е бил възпрепятстван от опцията за приемане на достъп до избран клас съоръжение, което преди този момент е било внасяно. Системите за литография от DUV (Deep Ultraviolet) клас, създадени от китайския стартъп едвам неотдавна съумяха да бъдат въведени в индустриалния развой.
Както оповестява Financial Times, SMIC неотдавна е почнала да тества скенер за надълбоко ултравиолетова литография (DUV), който е създаден от Yuliangsheng, китайска компания, учредена не доста от дълго време в Шанхай. Вносът на такова съоръжение в Китай от известно време е блокиран от глобите на Съединени американски щати, макар че съществуването му е от решаващо значение за способността на SMIC да откри произвеждане на по-усъвършенствани чипове.
Преди това китайските производители на полупроводникови съставни елементи в тази област бяха мощно подвластни от холандската компания ASML, която би трябвало да съблюдава условията освен на европейските управляващи, само че и на Съединени американски щати, защото в активността си разчита на технологии с генезис от Съединени американски щати. Друга китайска компания, SMEE също доставя DUV системи по личен дизайн, само че техните характерности са по-ниски от тези, предлагани от Yuliangsheng.
Западните компании създават най-съвременните чипове благодарение на EUVоборудване, само че то също е неразрешено в Китай отдавна, а китайските снабдители към момента не са съумели да разработят опция. Дори в тази ситуация с DUV скенерите на Yuliangsheng не всички съставни елементи за производството им се създават в Китай и затова към момента има какво да се направи по пътя към цялостно заменяне на вноса.
SMIC е много удовлетворена от резултатите от първите опити с такова съоръжение, само че е мъчно да се реши какъв брой скоро то ще се употребява за всеобщо произвеждане на чипове.
Освен това китайският производител на чипове ще може да вкара в съществуващата екосистема DUV скенери от ново потомство в най-хубавия случай една година след приемането им в задоволителни количества. Специфичното съоръжение е ориентирано към потапяща литография, която холандската ASML предлага и на своите клиенти отвън Китай.
Формално тестваното съоръжение с китайски генезис е предопределено за произвеждане на 28 nm чипове, само че SMIC се надява да го приложи за произвеждане на 7 nm чипове посредством потребление на голям брой фотомаски и пасове. При удобно стичане на събитията това съоръжение може да се употребява и за произвеждане на 5 nm чипове, на което SMIC от дълго време се надява.
Китайската компания SiCarrier, която е акционер в Yuliangsheng опитва с създаването на EUV съоръжение, само че е прекомерно рано да се приказва за триумф в тази област. Основана през 2021 гoдина нейната задача е да сътвори литографско съоръжение, което ще разреши на китайските клиенти да изоставят западните аналози, като в същото време реализиран сравнимо равнище на софтуерно развиване. SMIC в своите предприятия до дейното потребление на китайско съоръжение не по-рано от 2027 година.
