Нова литографска машина на ASML отваря пътя към производство на

Нова литографска машина на ASML отваря пътя към произвеждане на 1-нм чипове
(снимка: ASML)

Ерата на 1-нанометровите чипове наближава. Машините за литография с висока цифрова апертура на холандската ASML ще бъдат въведени в употреба в околните години, съгласно източници от компанията.

Съвместният център за проучвания и разработки на Samsung Electronics и ASML ще показа литографски машини с висока цифрова апертура не по-късно от 2027 година, заяви Лий Ху Кунг, президент на ASML Корея, представен от IT Home. Тези машини ще пренесат полупроводниковата промишленост на равнища под 2 нанометра.

Миналата година Samsung и ASML се споразумяха да влагат взаимно към 750 милиона $ за основаване на център за проучвания и разработки в Южна Корея. Инженерите на двете компании си сътрудничат в технологиите за полупроводници, употребявайки EUV съоръжение.
още по темата
„ Придобихме нов обект покрай кампуса ASML в Хуасонг, Южна Корея, и ще стартираме строителството през идната година. Планираме да въведем съоръжение с висока цифрова апертура, когато бъде готово ”, разгласи Лий в отговор на въпрос по отношение на напредъка в построяването на центъра.

По неговите думи, това ще се случи не по-късно от 2027 година За първи  път ASML Корея разкри местоположението на бъдещия център за научноизследователска и развойна активност и проекта за внедряване на High-NA EUV съоръжение.

Машините за рискова ултравиолетова (EUV) литография с висока цифрова апертура могат да се употребяват за произвеждане на чипове по софтуерни процеси под 2 нм. Появата на такива машини ще изостри конкуренцията сред играчите в полупроводниковата промишленост.

Intel получи първата си машина от ASML в края на предходната година, а Samsung възнамерява да стартира всеобщо произвеждане по 1,4-нм развой през 2027 година Анализаторите предвиждат, че литографските машини с висока цифрова апертура ще бъдат въведени скоро по-късно, започвайки с 1-нм развой.