Нова технология за мултифотонна литография показва рекордна разделителна способност
Китайски откриватели са създали усъвършенстван метод за 3D щемпел със свръхвисока разграничителна дарба на микролещи, фотонни кристали, микрооптични устройства, метаматериали и други За първи път високоскоростна технология за мултифотонна литография е употребена за отсрочване на линии, ситуирани единствено на 100 nm една от друга, върху стъклена поставка.
Мултифотонната литография се употребява за селективно полимеризиране на материали с наноразмерна акуратност благодарение на фокусиран лъч. Увеличаването на разграничителната дарба на този тип 3D принтиране – минималното разстояние сред прилежащи детайли – обаче е мъчно, защото интензивната лазерна светлина може да окаже нежелано влияние върху прилежащите райони. Учени от университета в Джъдзян обаче съумяха да решат този проблем, като използваха неповторима оптична конфигурация и специфичен фоторезист, написа Science Daily.
Те са създали фоторезиста – полимерен светлочувствителен материал – от необятно потребления мономер PETA в композиция със себацинат (BTPOS). BTPOS играе ролята на тягостен луминесценцията детайл, с цел да понижи кръстосаните вериги, които могат да зародят при печатане на линиите с висока разграничителна дарба.
Оптичната настройка се състои от 525 nm фемтосекунден лазер като източник на възбуждаща светлина и 532 nm пикосекунден лазер за закъснение. Взаимодействието на лъчите предотвратява нежеланата полимеризация и подсигурява, че мечтаният модел се образува с висока разграничителна дарба и точност. Освен това, с цел да реализиран толкоз висока разграничителна дарба, учените са употребявали тримерен светлинен модулатор, към който са приложили полиноми на Зернике, с цел да поправят аберациите на вълновия фронт.
В резултат на това новият метод сподели рекордна пространствена разграничителна дарба от 100 nm при скорост на щемпел от 100 µm/s. Освен това разграничителната дарба не спада под 120 nm, когато скоростта се усилва до 1000 µm/s.
Сега откривателите работят за по- нататъшното възстановяване скоростта на щемпел, като се стремят да реализират скорости от 10 и 100 mm/s, запазвайки високото качество и разграничителна дарба. Те също по този начин желаят да подобрят системата на фоторезиста, с цел да създадат метода на мултифотонната литография по-стабилен и удобен.
