High NA EUV оборудването на ASML е задължително за производителите

High NA EUV оборудването на ASML е наложително за производителите на чипове, в случай че желаят да преминат към 2-нм софтуерни процеси (снимка: ASML)

Intel си обезпечи по-голямата част от литографските машини за чипове по технология High NA EUV (екстремни ултравиолетови лъчи), които холандската ASML ще създаде до първата половина на идната година. За съперниците ще останат единици от тези машини.

ASML ще създаде пет броя EUV комплекти тази година, като всички ще отидат при американския чипмейкър, заяви TheElec. Тъй като потенциалът на ASML за High NA EUV съоръжение е към пет до шест единици годишно, това значи, че Intel получава всички първични ресурси.

Конкурентите на Intel, корейските компании Samsung и SK Hynix, се чака да се снабдят с такива комплекти някъде през втората половина на идната година. Intel закупи превантивно оборудването, откакто разгласи повторното си нахлуване на пазара за произвеждане на чипове по контракт (където водач е тайванската TSMC).
още по темата
High NA EUV оборудването на ASML е наложително за производителите на чипове, в случай че желаят да преминат към 2-нанометрови софтуерни процеси. Всяка такава машина коства над 370 млн. $.

NA значи цифрова апертура и демонстрира способността на оптичната система да събира и концентрира светлината. Колкото по-висока е числената стойност, толкоз по-добро е събирането на светлина. При High-NA EUV тази стойност е увеличена до 0,55 (от 0,33). Това значи, че оборудването може да “рисува ” по-фини електрически вериги.

Intel възприема High-NA EUV технологията по-бързо от съперниците, с цел да завоюва клиенти. Компанията навлезе още веднъж на пазара за договорно произвеждане на чипове през 2021 година, само че предходната година този бизнес ѝ аргументи загуби в размер на 7 милиарда щатски $.