High NA EUV машини на ASML ще позволяват създаване на

High NA EUV машини на ASML ще разрешават основаване на по-малки и по-бързи чипове
(снимка: ASML)

ASML, най-големият производител на съоръжение за произвеждане на чипове, отвори нова тестова лаборатория за своята литографска технология High NA EUV, в съдействие с белгийската полупроводникова компания Imec.

Лабораторията във Велдховен, Холандия, ще даде опция на водещи производители на чипове и други компании за доставка на машини и материали да работят с нов инструмент на стойност 350 милиона евро (380 милиона долара), който е първи по рода си, заяви CNBC.
още по темата
ASML господства на пазара за литографско съоръжение, което е основно в процеса на произвеждане на чипове – светлинните лъчи се употребяват за основаване на веригите в чиповете.

Сред производителите на чипове единствено TSMC, Samsung, Intel и фирмите за памети SK Hynix и Samsung могат да употребяват настоящото потомство EUV (екстремен ултравиолет) машини на ASML. Новият инструмент High NA разрешава до 60% по-добра резолюция и ще направи допустимо производството на последващо потомство по-малки и по-бързи чипове.

ASML чака клиентите да стартират комерсиално произвеждане с инструмента през 2025-2026 година Към днешна дата ASML е изпратила единствено една тестова машина на Intel, която възнамерява да употребява инструмента в своя 14A развой през 2025 година

Холандската компания има поръчки от повече от дузина производители, макар че TSMC, най-големият ѝ клиент за EUV съоръжение, съобщи, че не е належащо да употребява High NA принадлежности за своите A16 чипове. Очаква се те да влязат в произвеждане през 2025 г.