Начало на нова епоха в полупроводниковата индустрия: 7 нанометровата продукция на Samsung
Компанията Samsung Electronics през днешния ден публично заяви, че напълно е завършила с създаването и предварителните стадии, и към този момент е почнала производството на полупроводникова продукция посредством новия 7 нанометров софтуерен развой 7LPP (Low Power Plus) . Силно би трябвало да се подчертае, че 7LPP е първият софтуерен развой на южнокорейския производител, основан на литография посредством твърдо ултравиолетово лъчение (EUV). Освен това, Samsung е първата компания, която употребява EUV за комерсиално произвеждане на чипове. Според южнокорейския производител, преходът към 7LPP технологическия развой е директна проява за идното асимилиране на 3 nm софтуерни правила.
Изпълнителният шеф по продажби и маркетинг на Samsung Electronics Чарли Бей зави, че събитието по внедряването на 7LPP процеса е „една тиха гражданска война в полупроводниковата индустрия„.
Както елементарно можем да се досетим от името, 7LPP софтуерният развой е усъвършенстван от позиция на ниската консумация на електрическа сила. Той ще се употребява за производството на необятен набор чипове от ново потомство, които ще разширят границите на опциите в другите сегменти. Например при 5G, ИИ, IoT, корпоративните и мащабируеми дата центрове, електрическите автомобили и изчислителни мрежи. Вече е известно, че Qualcomm ще употребява 7LPP технологията на Samsung за производството на новите SoC Snapdragon с поддръжката на 5G.
Основната разлика на EUV от необятно употребяваната към сегашен ден обичайната имерсионна литография (DUV) е в потреблението на източник с доста по-малка дължина на вълната – 13,5 nm против 193 nm. Подобрената технология дава опция за намаляването на броя употребявани при производството фото маски (до 20%). По този метод ще се редуцира индустриалния цикъл, ще се понижат загубите и ще се понижи брака.
В съпоставяне с предходната технология 10LPE, новата 7LPP ще понижи площта на кристала с 40% и по едно и също време с това ще понижи потреблението на сила с 50% или ще увеличи продуктивността с 20%.
Към сегашен ден само заводът Fab S3 в южната част на Южна Корея, който е оборудван с EUV скенерите ASML Twinscan NXE: 3400B, създава 7LPP чипове.
Очаква се първите смарт телефони, основани на SoC от новото потомство, създадени посредством 7LPP софтуерния развой, да излязат през началото на 2019 година. Разбира се, това ще бъдат смарт телефоните на Samsung. Следващият стадий ще бъде разширение потреблението на EUV-литографията и всеобщото произвеждане на друга полупроводникова продукция. Това ще стане, откакто стартира работа вторият цех (на фотографията по-долу) с цена 6 трилиона вона или към $5,3 милиарда. Той ще бъде завършен през 2019 година, а през 2020 година новият цех ще стартира всеобщото произвеждане на полупроводници посредством 7LPP технологията.
Що се отнася до Intel, който до неотдавна бе най-големият в света производител на процесори, той към момента има компликации с 10 нанометровия софтуерен развой и към този момент отсрочва усвояването на EUV.
Остава да обобщим, че полупроводниковата промишленост имаше потребност от цели 33 години, с цел да доближи до литографията с твърдо ултравиолетово лъчение. Това без подозрение е началото на една нова ера.
Изпълнителният шеф по продажби и маркетинг на Samsung Electronics Чарли Бей зави, че събитието по внедряването на 7LPP процеса е „една тиха гражданска война в полупроводниковата индустрия„.
Както елементарно можем да се досетим от името, 7LPP софтуерният развой е усъвършенстван от позиция на ниската консумация на електрическа сила. Той ще се употребява за производството на необятен набор чипове от ново потомство, които ще разширят границите на опциите в другите сегменти. Например при 5G, ИИ, IoT, корпоративните и мащабируеми дата центрове, електрическите автомобили и изчислителни мрежи. Вече е известно, че Qualcomm ще употребява 7LPP технологията на Samsung за производството на новите SoC Snapdragon с поддръжката на 5G.
Основната разлика на EUV от необятно употребяваната към сегашен ден обичайната имерсионна литография (DUV) е в потреблението на източник с доста по-малка дължина на вълната – 13,5 nm против 193 nm. Подобрената технология дава опция за намаляването на броя употребявани при производството фото маски (до 20%). По този метод ще се редуцира индустриалния цикъл, ще се понижат загубите и ще се понижи брака.
В съпоставяне с предходната технология 10LPE, новата 7LPP ще понижи площта на кристала с 40% и по едно и също време с това ще понижи потреблението на сила с 50% или ще увеличи продуктивността с 20%.
Към сегашен ден само заводът Fab S3 в южната част на Южна Корея, който е оборудван с EUV скенерите ASML Twinscan NXE: 3400B, създава 7LPP чипове.
Очаква се първите смарт телефони, основани на SoC от новото потомство, създадени посредством 7LPP софтуерния развой, да излязат през началото на 2019 година. Разбира се, това ще бъдат смарт телефоните на Samsung. Следващият стадий ще бъде разширение потреблението на EUV-литографията и всеобщото произвеждане на друга полупроводникова продукция. Това ще стане, откакто стартира работа вторият цех (на фотографията по-долу) с цена 6 трилиона вона или към $5,3 милиарда. Той ще бъде завършен през 2019 година, а през 2020 година новият цех ще стартира всеобщото произвеждане на полупроводници посредством 7LPP технологията.
Що се отнася до Intel, който до неотдавна бе най-големият в света производител на процесори, той към момента има компликации с 10 нанометровия софтуерен развой и към този момент отсрочва усвояването на EUV.
Остава да обобщим, че полупроводниковата промишленост имаше потребност от цели 33 години, с цел да доближи до литографията с твърдо ултравиолетово лъчение. Това без подозрение е началото на една нова ера.
Източник: kaldata.com
КОМЕНТАРИ